醫藥結晶體管線式濕法粉碎膠體磨,醫藥結晶體高剪切膠體磨,醫藥結晶體新工藝濕法粉碎機,醫藥中間體高效粉碎機,硫酸氫氯吡格雷濕法粉碎機,醫藥濕法粉碎機是通過皮帶傳動帶動轉齒(或稱為轉子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉,被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產生)加壓產生向下的螺旋沖擊力,透過膠體磨定、轉齒之間的間隙(間隙可調)時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果。
晶體(crystal)是由大量微觀物質單位(原子、離子、分子等)按一定規則有序排列的結構,因此可以從結構單位的大小來研究判斷排列規則和晶體形態
實際上是一些用于藥品合成工藝過程中的一些化工原料或化工產品。這種化工產品,不需要藥品的生產許可證,在普通的化工廠即可生產,只要達到一些的別,即可用于藥品的合成
目許多結晶體一般在40-50UM ,下游的客戶在處理這些物料有更高的要求一般需要達到5-10UM ,要么干法氣流粉碎 ,要么濕法粉碎且粉碎過程中要保證晶體的形狀,以及粒度的均一性。
干磨產生大量灰塵,從而需要配備適當的過濾系統。當研磨其粉塵與大氣氧氣混合會產生爆炸性混合物的物質時,這一點尤其重要。達到規定的安全等通常需要精心設計的技術解決方案,如除塵和惰性氣體覆蓋系統。這些過濾系統的成本通常大大超出實際研磨機的成本。
濕磨被用于醫藥工業的許多應用中,并且取得了良好的效果,因為它非常適用于API(活性藥用成分)。
濕磨機濕磨是干磨的一種安全而高效的替代方案,基于轉子-定子原理。
用轉子-定子置濕磨此類物質具有諸多好處:
1 研磨得到的細顆粒被直接融 合到懸浮液中,因而從開始就避免了灰塵的形成。
2 與干磨系統不同,被研磨的物質保持在系統內,從而大幅減少了損失。因此,濕磨非常適合有機化學品,尤其是優質物質,或者有毒物質的研磨。
3相對干磨過程而言,濕磨的產品進料和計量較容易。
醫藥結晶體膠體磨特點
①具有非常高的剪切速度和剪切力,粒徑約為0.2-2微米可以確保高速分散乳化的穩定性。
②該設備可以適用于各種分散乳化工藝,也可用于生產包括對乳狀液、懸浮液和膠體的均質混合。
③雙入口乳化機由定、轉子系統所產生的剪切力使得溶質轉移速度增加,從而使單一分子和宏觀分子媒介的分解加速。
④雙入口進口方式的設計,避免兩種不能長期接觸物料,可以得到瞬間的剪切。
醫藥結晶體濕法粉碎膠體磨是在傳統膠體磨的基礎上改進的一款除了研磨效果以外更添加可高速剪切分散頭,使得物料在研磨粉碎的瞬間立即被高剪切分散。
設備結構:
第1組具有精細度遞升的三層鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每層都可以改變方向。
第2組由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是轉子齒的排列,還有一個很重要的區別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例,依據以的經驗工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數情況下,機器的構造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出產品是很重要。
CMSD2000系列醫藥結晶體高剪切膠體磨設備選型表
醫藥結晶體高剪切膠體磨 | 流量 L/H | 轉速 rpm |
| 線速度 m/s |
| 功率 kw | 入/出口連接 DN |
CMSD 2000/4 | 300 | 14000 |
| 41 |
| 4 | DN25/DN15 |
CMSD 2000/5 | 1000 | 10500 |
| 41 |
| 11 | DN40/DN32 |
CMSD 2000/10 | 4000 | 7200 |
| 41 |
| 22 | DN80/DN65 |
CMSD 2000/20 | 10000 | 4900 |
| 41 |
| 45 | DN80/DN65 |
CMSD 2000/30 | 20000 | 2850 |
| 41 |
| 90 | DN150/DN125 |
CMSD 2000/50 | 60000 | 1100 |
| 41 |
| 160 | DN200/DN150 |
表中上限處理量是指介質為“水”的測定數據。
流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,可以被調節到允許量的10%
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